我們都知道，我國的半導體和芯片行業一直受到美國的壓制。電子級硫酸在芯片制造工藝中是用量z大的電子化學品，在大規模集成電路、LED顯示器、平板顯示器等電子工業中有著大量的應用。因此電子級硫酸也屬于需要突破的“卡脖子”產品中的一員。我國之前電子級硫酸完全依賴與巴斯夫等外企的進口，電子級硫酸的要求比普通硫酸的要求高很多，它的金屬離子必須達到PPT級別，對雜質含量、純度要求極高，國內企業多是以工業硫酸生產為主。
經過幾年的研究，我國電子級硫酸的品質已經達到了國內領先、世界一流的水平。作為集成電路制造業、封裝測試業以及整機裝配業原料供應的上游行業，高規格的電子級硫酸自然供不應求，但是想要搶占國內外市場，就必須以標準為導向，建立起完善的規則制度。因此我們就來給大家介紹一下電子級硫酸的化工原料檢測標準。
為了技能滿足國內生產企業及使用企業的生產、使用需求，可以將電子級硫酸產品按純度劃分為五個等級，分別為EL、VL、UL、SL和XL。在具體的指標上，對硫酸含量、外觀、色度、不同粒徑顆粒的個數、氯化物、硝酸鹽、磷酸鹽、銨鹽、還原高錳酸鉀物質及金屬雜質等共 35 個項目有具體的要求。
一般來說，如果電子級硫酸用于電子硅晶片的制造過程，則需要對其中的金屬和非金屬雜質陽離子進行嚴格的控制，在進行化工原料檢測時要尤為注意。因為硅圓片上存在的不溶性固體顆粒或金屬離子可能導致電路之間導電，引起短路。如果是鈉、鈣等堿金屬雜質會融進氧化膜中，導致耐絕緣電壓下降，當硅圓片表面附著有銅、鐵、鉻、銀等重金屬雜質時，會使P-N結耐電壓降低，影響大規模集成電路電性能，硼、磷、砷等雜質離子會影響擴散劑的擴散效果，塵埃顆粒會造成光刻缺陷，氧化層不平整，影響制版質量和等離子蝕刻工藝。因此，新標準對各種金屬和非金屬雜質陽離子質量分數都做了明確要求。
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