輸入電源
220VAC50/60Hz,單相
2000W(包括泵)
濺射電源
安裝有兩個濺射電源
直流(DC)電源:500W,針對于制作金屬膜
射頻(RF)電源:600W,可制作氧化物和金屬膜
同時可選配300W的射頻電源
磁控濺射頭
儀器中安裝有2個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水對靶材降溫
其中一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材
另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導電性靶材
靶材尺寸要求:金屬靶:直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
陶瓷靶:直徑為50mm,zui大厚度6mm
儀器中標配一個不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶
濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環水冷機)
也可以根據自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭,訂購前需于本公司銷售人員
真空腔體
真空腔體:300mmDiax300mmh,采用不銹鋼制作
觀察窗口:100mmdiameter
腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易
載樣臺
載樣臺尺寸:140mmdia.(zui大可放置4"的基底)
載樣臺可以旋轉,其速度為:1-20rpm(可調)
載樣臺zui高可加熱溫度為500℃,控溫精度為+/-1.0°C
氣體流量控制器
儀器內部安裝有2個質量流量計
量程為:0-200sccm
氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作
本產品信息由中美合資合肥科晶材料技術有限公司整理發布,更多關于雙靶磁控濺射儀的信息請訪問:
https://www.chem17.com/st152911/erlist_1290255.html
http://www.kjmti.com.cn/Products-24006809.html
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2000W(包括泵)
濺射電源
安裝有兩個濺射電源
直流(DC)電源:500W,針對于制作金屬膜
射頻(RF)電源:600W,可制作氧化物和金屬膜
同時可選配300W的射頻電源
磁控濺射頭
儀器中安裝有2個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水對靶材降溫
其中一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材
另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導電性靶材
靶材尺寸要求:金屬靶:直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
陶瓷靶:直徑為50mm,zui大厚度6mm
儀器中標配一個不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶
濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環水冷機)
也可以根據自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭,訂購前需于本公司銷售人員
真空腔體
真空腔體:300mmDiax300mmh,采用不銹鋼制作
觀察窗口:100mmdiameter
腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易
載樣臺
載樣臺尺寸:140mmdia.(zui大可放置4"的基底)
載樣臺可以旋轉,其速度為:1-20rpm(可調)
載樣臺zui高可加熱溫度為500℃,控溫精度為+/-1.0°C
氣體流量控制器
儀器內部安裝有2個質量流量計
量程為:0-200sccm
氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作
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